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關于Ion Source離子源 等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數量級。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實現比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

Gas Mixers氣體混配器用于 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠程等離子源

TEM cube多用途樣品清潔及儲存腔室可用于在高真空下存儲多達 8 個 TEM 樣品架（極限真空在 10 -7 Torr 范圍內）。真空度足夠高，可以檢查原位 TEM 芯片的泄漏。它還可以配備遠程 EM-KLEEN 等離子源，以在腔室中進行等離子清潔。腔室的大小為 9 英寸立方。它可以擬合相當大的 TEM 和 SEM 樣品和組件。房間有一個玻璃前門用于觀察。

TEM 樣品架真空泵站可在真空條件下存儲多達六個 TEM 樣品架，以幫助樣品和樣品架放氣，去除水凝結，并保持樣品和支架清潔。它還可用于試樣夾具座的泄漏檢查。

關于SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠程等離子體清洗機基于勞倫斯伯克利國家實驗室開發的高效電感耦合等離子體（ICP）放電技術。與傳統 ICP 放電技術相比，我們的 Turbo Discharge™技術進一步提高了等離子體強度多達 3 倍。