Model 30 準直紫外光源及曝光系統

OAI 的獨立式紫外泛光曝光系統，適用于深紫外、中紫外或近紫外。系統包括強度控制、雙波長傳感器和精密曝光定時器。從靈活性角度設計，該系統可用作獨立單元，集成到晶圓旋轉軌道上，或通過使用一個或兩個燈箱以及各種光路方向，以多種其他配置形式使用。在深紫外波段，可實現單級或多級高分辨率光刻，光譜峰值為 220、260 或 310 納米。近紫外系統功率范圍為 200 至 2000 瓦，深紫外系統為 500 至 2000 瓦 。

燈發出的能量被導向主介質鏡，主介質鏡反射所需能量并濾除不需要的輻射。可調節的光學積分器提高能量均勻性，并能控制能量和光束發散度。能量在曝光平面均勻分布并被準直。透過副鏡的能量由一個調諧到所需波長的光學探測器測量，并傳輸到恒定強度控制器，該控制器補償燈的老化和功率波動，將光線控制在 ±2% 以內。雙通道控制器可在 0.1 或 1.0 秒的增量下設置為 0 到 999 秒。

OAI 紫外曝光系統以長期可靠性和高效率著稱。它們的設計便于從一個波長區域轉換到另一個波長區域，并有多種帶通鏡組可供選擇 。

應用領域

• 光聚合物曝光

• 多層抗蝕劑加工

• 圖像反轉

• 邊緣珠（邊緣膠束 ）去除

• 圖像穩定化

• 光刻膠輪廓修正

• 晶圓旋轉軌道在線加工

• 平板顯示器

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