半個(gè)多世紀(jì)以來(lái)，OAI 在紫外線光強(qiáng)與能量測(cè)量?jī)x器領(lǐng)域一直較高水平。該儀器能為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、晶圓封裝及晶圓凸點(diǎn)制作行業(yè)的光刻工藝，提供可靠、精準(zhǔn)且經(jīng)校準(zhǔn)的控制。659 型是一款*的紫外線曝光分析儀，專為適配各類晶圓步進(jìn)光刻機(jī)（包括高強(qiáng)度晶圓步進(jìn)光刻機(jī) ）而設(shè)計(jì)。這款儀器可存儲(chǔ)多達(dá) 400 組曝光讀數(shù)，配備以太網(wǎng)和 USB 接口用于下載已記錄的測(cè)量數(shù)據(jù)，光強(qiáng)量程最高可達(dá) 7500 毫瓦每平方厘米 。探頭可選波長(zhǎng)為 365 納米、400 納米、420 納米和 436 納米 。OAI 擁有完備的校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室，以確保我們儀器的性能、質(zhì)量和可靠性 。659 型儀器可溯源至美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院（NIST）標(biāo)準(zhǔn)，且符合 ROHS2（《關(guān)于限制在電子電氣設(shè)備中使用某些有害成分的指令》第二版 ）及 CE（歐洲合格評(píng)定 ）認(rèn)證要求 。

• 可與任何晶圓步進(jìn)光刻機(jī)配套使用

• 極為精準(zhǔn)且可靠

• 適配高強(qiáng)度晶圓步進(jìn)光刻機(jī)

• 測(cè)量數(shù)據(jù)易于下載

• 量程高達(dá) 7500 毫瓦每平方厘米

• 最多可存儲(chǔ) 400 組測(cè)量數(shù)據(jù)

• 符合 ROHS2（《關(guān)于限制在電子電氣設(shè)備中使用某些有害成分的指令》第二版 ）及 CE（歐洲合格評(píng)定）標(biāo)準(zhǔn)

• 為每臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)單獨(dú)設(shè)計(jì)，可安裝在步進(jìn)光刻機(jī)的工作臺(tái)上

• 探頭波長(zhǎng)（納米）：365、400、420、436

• 多層吸收電介質(zhì)濾光片

• 可與任何 OAI 659 型儀表互換使用